反射式光學膜厚儀測試原理

反射膜厚儀基于白光干涉原理工作，光源發出的寬帶光入射至待測薄膜表面后，經薄膜上下表面反射形成的兩束反射光會因光程差產生干涉，干涉信號中包含薄膜厚度、光學常數等關鍵信息，設備通過探頭采集干涉后的反射光譜，對特定波段范圍內的光譜進行模型擬合后，即可反演解析出薄膜的厚度、光學常數及粗糙度等參數，整個系統由高強度組合光源提供寬光譜入射光，經光學系統傳輸至樣品，反射光返回后由高速光譜模塊采集信號，最終通過上位機軟件完成數據處理與結果輸出。

產品特點

1. 精準測量：支持20nm超薄膜厚檢測，準確度±1nm、重復精度0.05nm，滿足精密檢測需求；

2. 高速采樣：采樣速度100Hz，適配產線快速檢測，提升測量效率；

3. 寬光譜覆蓋：采用氘鹵組合光源，光譜覆蓋紫外至近紅外，可解析單層/多層膜厚；

4. 強抗干擾性：高靈敏度元器件搭配抗干擾光學系統+多參數反演算法，復雜環境下測量穩定；

5. 靈活易適配：支持自定義膜結構測量，設備小巧易安裝，配套軟件及二次開發包，適配實驗室/產線多場景。

反射式光學膜厚儀技術參數